采样器sampler_state

这段代码是在HLSL（High Level Shader Language）中定义一个名为 def_sampler 的采样器状态对象。让我们逐步解释它的语法和功能：

sampler_state def_sampler {
    Filter   = Linear;
    AddressU = Clamp;
    AddressV = Clamp;
};

解释和详细解析：

1. sampler_state:

   • sampler_state 是HLSL中用来定义采样器状态的关键字。采样器状态定义了如何对纹理进行采样，包括采样过滤器（Filter）、寻址模式（Address Mode）等设置。

2. def_sampler:

   • def_sampler 是这个采样器状态对象的名称，你可以在着色器中通过这个名称来引用它。

3. Filter = Linear

   • Filter 属性指定了纹理的采样过滤器类型。在这里，设置为 Linear 表示使用线性插值进行纹理采样。这意味着从纹理中取样的像素值是根据周围像素的加权平均值计算得到的，通常用于平滑的纹理映射。

4. AddressU = Clamp 和 AddressV = Clamp

   • AddressU 和 AddressV 属性分别指定了在纹理坐标超出 [0, 1] 范围时的处理方式。在这里，设置为 Clamp 表示超出部分会被截断到边界值。这种寻址模式适合大多数情况下，可以防止出现纹理坐标环绕或重复的问题。

总结功能：

• 这段代码定义了一个采样器状态对象 def_sampler，用于在HLSL着色器中指定如何对纹理进行采样操作。
• 采样器状态包括三个主要设置：采样过滤器为线性插值，以及在纹理坐标超出范围时的截断处理。

使用这个定义后，你可以在着色器代码中通过 def_sampler 来进行纹理采样操作，确保采样器在使用纹理时遵循预期的过滤和寻址规则。

其它示例

SamplerState MeshTextureSampler
{
    Filter = MIN_MAG_MIP_LINEAR;
    AddressU = Wrap;
    AddressV = Wrap;
};

SamplerComparisonState ShadowSampler
{
   // sampler state
   Filter = COMPARISON_MIN_MAG_LINEAR_MIP_POINT;
   AddressU = MIRROR;
   AddressV = MIRROR;

   // sampler comparison state
   ComparisonFunc = LESS;
};